1、首先，光刻機的透鏡，光源技術難度大，研發要求歷史和時間比較長。其實光刻機的發展歷史非常悠久，從90年代開始，發達國傢就已經開始研究光刻機的相關技術。其中美國著名廠商asml負責研發，在硬件方面他們采用德國蔡司的透鏡。並且其他的相關硬件都來自於其他高科技國傢。所以說光刻機技術不僅僅是一個國傢就能夠研發出來的，它還需要全球不同的國傢為其提供生產力和科技的支持。舉一個簡單的例子說明，美國生產的7納米芯片，是利用光刻技術將數據集成到芯片上。並且在制作過程當中要非常嚴格地掌控光的大小。這遠比制作一個普通的相機要難，因為相機隻需要控制光圈，而光刻機不僅僅是要控制光的大小，還要能夠利用光。
2、其次，光刻機的研發需要大量的資金支持，很多企業難以承擔高昂的研發費用。美國等發達國傢研究光刻機，幾乎每年都有超過90個億的資金作為研發費用。到目前為止這些掌握光刻機技術的國傢大約都花費瞭約4000億元。並且目前光刻機市場的老大asml幾乎可以說是整個光刻機技術的壟斷者。他們每年投入的研發費用，幾乎是某些世界500強企業的三個季度的收入。
3、最後，我國的光刻機技術剛起步，仍然面臨著許多難題需要攻克。從目前我國在相關行業發展歷史分析，隻有上海微電子裝備和合肥芯碩半導體有限公司在研究光刻機方面取得瞭一定的進步。
