1、人類過多地使用氯氟烴類化學物質（用CFCs表示）是臭氧層被破壞的主要原因。氯氟烴是一種人造化學物質。在第二次世界大戰後，尤其是進入20世紀60年代以後，氯氟烴大量用作氣溶膠、制冷劑、發泡劑、化工溶劑等。
2、另外，哈龍類物質（用於滅火器）、氮氧化物也會造成臭氧層的損耗。
3、發展中國傢必須於2005年之前將氟氯烴的排放量凍結在1995－1997年的平均數量上，而發達國傢已於1996年間基本停止使用這些消耗臭氧層的主要物質。
4、因此，必須積極尋找新的制冷工質來代替氯氟烴類物質，世界各國已經進行瞭許多新的嘗試，主要是應用兩類制冷劑和確定三個發展方向。
